TEM用氮化硅薄膜窗口
氮化硅薄膜窗特點
? 低應力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應用
? 氮化硅支撐膜：低應力的LPCVD非化學計量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性
? 良好的化學穩定性：圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡；
? 均勻性：減少了不同區域的不均勻性；
? TEM斷面成像應用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度可達75°
? 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm
? 可應用于多種顯微技術：良好的機械穩定性使得同***種薄膜可應用于TEM, SEM, EDX, XPS ａnd AFM 。
? 薄膜和基底耐酸，不會被溶解：可以在酸性條件或常規條件下研究、制備樣本
? 可應用于高溫試驗環境： >1000° C
? 可提供更對精確的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環境中的TEM成像和分析
? 容易清洗：機械穩定性和化學穩定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無有機物殘留，改善成像質量；
? 良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結構適合于SEM成像
? 超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100***的超凈間內包裝
? 框架厚度：200 ａnd 50μm ：200μm是標準的TEM支撐架；50μm是特殊的TEM支撐架
? 標準框架直徑為3mm
? 同***批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性
氮化硅薄膜窗規格
單窗口系列
窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 |
| 20nm | 500x500μm | Φ3mm | 100μm |
20/50nm | 500x500μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 1000x1000μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 100x100μm | Φ3mm | 200μm |
| 15nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200μm |
200nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200μm |
15/50/200nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 50μm |
| 50nm /200nm | 0.5x1.5mm | Φ3mm | 50μm |
多窗口系列
窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 |
| 50nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
| 15nm /50nm /200nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 50μm |
| 10nm /20nm | 3x3陣列，8個窗口100X100μm， 1個窗口100X350μm | Φ3mm | 100μm |
10nm | 3x3陣列，8個窗口250X250μm， 1個窗口250X500μm | Φ3mm | 100μm |
20nm | 3x3陣列，8個窗口100X100μm， 1個窗口100X350μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 3x3陣列，8個窗口100X100μm， 1個窗口100X350μm | Φ3mm | 100μm |
| 15nm /50nm /200nm | 3x3陣列，窗口100X100μm， | Φ3mm | 200μm |
50nm | 3x3陣列，窗口100X100μm， | Φ3mm | 50μm |
| 8nm | 單窗口，窗口大?。?.6×0.6mm；25個網格，氮化硅支撐膜200nm；網格上的氮化硅薄膜8nm；網格大小：75μm ，網格間距：25μm； | Φ3mm | 200μm |
應用簡介：
1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同***區域的交叉配對表征。
2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉動觀察。
3、無碳、無雜質的清潔TEM觀測平臺。
4、背景氮化硅無定形、無特征。
5、耐高溫、惰性襯底，適應各種聚合物、納米材料、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環境，（薄膜直接沉積在窗口上）。
6、生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。
7、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學反應和退火效應的原位表征。
8、適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。
滬公網安備31011502016460號
